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J-GLOBAL ID：200903030094145513
MEMSファブリーペロ素子の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浜田 治雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003108476
Publication number (International publication number)：2004191912
Application date： Apr. 11, 2003
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：
【課題】ファブリーペロ素子の平行部材を精密に位置決めするMEMSファブリーペロ素子の製造方法を提供する。【解決手段】薄膜堆積プロセスを利用して間隔保持部材を製造し、さらに、膜厚モニタによって間隔保持部材の厚さを制御することにより、光出力波形に影響を及ぼす各重要なプロセス変数を精確に制御でき、且つ、平行部材の表面の平面精度を確保でき、この方法によって製造されたMEMSファブリーペロ素子では所望の波形に符合するスぺクトラムを精確に濾過することができる。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
二つの基板を提供するステップと、
前記二つの基板の表面の所定領域に堆積物を形成するステップと、
一膜厚モニタによって前記堆積物の厚さを制御するステップと、
前記二つの基板を、前記堆積物を隔てて結合させるステップと、
を含むMEMSファブリーペロ素子の製造方法であって、
前記堆積物の厚さが所望のキャビティ長さと同じであることを特徴とするMEMSファブリーペロ素子の製造方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (7)：
2H048GA07
, 2H048GA09
, 2H048GA13
, 2H048GA26
, 2H048GA48
, 2H048GA51
, 2H048GA60
Cited by examiner (5)
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