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J-GLOBAL ID:200903030105789892

有害物質除去方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 北村 修一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997353003
Publication number (International publication number):1999179140
Application date: Dec. 22, 1997
Publication date: Jul. 06, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 エネルギー的に効率よく有害物質を無害化しつつ除去する方法及び装置を提供する。【解決手段】 有害物質含有ガスから有害物質を吸着剤1aに吸着して濃縮する吸着工程と、その濃縮された有害物質を吸着剤1aから脱着させる脱着工程と、吸着剤1aから脱着した有害物質を閉じた循環経路4内で無害化する無害化工程とを行う有害物質除去方法。有害物質を吸脱着可能な吸着剤1aを内装したガス吸着部1を複数設けるとともに、前記複数のガス吸着部1の内の一部に有害物質含有ガスを選択的に流通切替可能にするガス流通部2及び流路切替部3を設け、前記複数のガス吸着部1の内の残部の内の一部または全部にそのガス吸着部から脱着する有害物質を導通させるガス循環部4を設け、そのガス循環部4に、前記有害ガスを無害化させる無害化装置5を設けた有害物質除去装置。
Claim (excerpt):
有害物質含有ガスから有害物質を吸着剤に吸着して濃縮する吸着工程と、その濃縮された有害物質を吸着剤から脱着させる脱着工程と、吸着剤から脱着した有害物質を閉じた循環経路内で無害化する無害化工程とを行う有害物質除去方法。
IPC (6):
B01D 53/04 ZAB ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81 ,  B01J 20/08 ,  B01J 20/20
FI (6):
B01D 53/04 ZAB F ,  B01D 53/04 G ,  B01J 20/08 A ,  B01J 20/20 A ,  B01D 53/34 A ,  B01D 53/34 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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