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J-GLOBAL ID：200903030311921195

セラミックス部材

Inventor：
山田 裕丈

About 山田 裕丈


Applicant, Patent owner：
日本碍子株式会社

About 日本碍子株式会社


Agent (7)： 中村 友之 ,  三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄 ,  鈴木 壯兵衞 ,  高久 浩一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003069831
Publication number (International publication number)：2004281639
Application date： Mar. 14, 2003
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：
【課題】ハロゲンプラズマが生成される反応容器内に少なくとも一部が露出する状態で使用されるセラミックス部材の寿命を延長する。【解決手段】第1のセラミックス材を主成分とする基材と、基材の反応容器内に面した表面を被覆し、第1のセラミックス材より耐プラズマエッチング性が高い第2のセラミックス材を主成分とする被覆層とを有するセラミックス部材である。さらに、上記被覆層は、ハロゲンプラズマによるエッチング速度が局所的に高い領域に厚膜部を有し、厚膜部の膜厚(tt)と、及び厚膜部以外の通常膜厚部の膜厚(tn)とが、以下の式(1)を満たす。tn< tt ≦ (Ee/En)×tn・・・(1)ここで、En:通常膜厚部での被覆層のエッチング速度Ee:厚膜部での被覆層のエッチング速度【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
ハロゲンプラズマが生成される反応容器内に少なくとも一部が露出する状態で使用されるセラミックス部材であって、 第1のセラミックス材を主成分とする基材と、 前記基材の反応容器内に面した表面を被覆し、前記第1のセラミックス材より耐プラズマエッチング性が高い第2のセラミックス材を主成分とする被覆層とを有し、 前記被覆層は、前記ハロゲンプラズマによる前記被覆層のエッチング速度が局所的に高い領域に厚膜部を有し、前記厚膜部の膜厚(tt)、及び前記厚膜部以外の通常膜厚部の膜厚(tn)が、以下の式(1)を満たすことを特徴とするセラミックス部材、 tn< tt ≦ (Ee/En)×tn・・・(1) ここで、En:前記通常膜厚部での被覆層のエッチング速度 Ee:前記厚膜部での被覆層のエッチング速度。
IPC (2)：
H01L21/3065 ,  C23C4/10
FI (2)：
H01L21/302 101G ,  C23C4/10
F-Term (14)：
4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB09 ,  4K031CB41 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031CB46 ,  4K031CB47 ,  4K031CB50 ,  4K031DA04 ,  4K031EA05 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB29
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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