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J-GLOBAL ID：200903030361367660

液晶用ガラス基板の洗浄方法

Inventor： 屋良 卓也 ,  湯浅 基和 ,  本間 孝治
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社 ,  株式会社ケミトロニクス
Agent (1)： 河備 健二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000346864
Publication number (International publication number)：2002143795
Application date： Nov. 14, 2000
Publication date： May. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】 インライン化が可能で、大面積処理や処理の高速化の出来る液晶用ガラス基板の洗浄方法の提供。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下で、酸素を4体積%以上含有する雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間にパルス化された電界を印加することにより発生させた放電プラズマを液晶用ガラス基板に接触させることを特徴とする液晶用ガラス基板の洗浄方法。

Claim (excerpt)：

大気圧近傍の圧力下で、酸素を4体積%以上含有する雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間にパルス化された電界を印加することにより発生させた放電プラズマを液晶用ガラス基板に接触させることを特徴とする液晶用ガラス基板の洗浄方法。

IPC (3)：

B08B 7/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (3)：

B08B 7/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

F-Term (12)：

2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H090JC09 ,  2H090JC19 ,  3B116AA02 ,  3B116AB14 ,  3B116BB62 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  3B116CC05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• グロー放電プラズマ処理方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-133716   Applicant：積水化学工業株式会社
• 大気圧でのグロー放電プラズマによる表面洗浄装置および洗浄方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-536771   Applicant：ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・テネシー・リサーチ・コーポレイション