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J-GLOBAL ID:200903097850677742

グロー放電プラズマ処理方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997133716
Publication number (International publication number):1998154598
Application date: May. 23, 1997
Publication date: Jun. 09, 1998
Summary:
【要約】【課題】 処理の際のガス雰囲気を問わず、大気圧近傍の圧力下で均一な放電プラズマを発生させ、安定してグロー放電プラズマ処理を行う方法を提供する。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下で、対向電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該対向電極間に電界を印加することによりグロー放電プラズマ処理を行う方法であって、印加される電界がパルス化されたものであり、電圧立ち上がり時間が100μs以下、電界強度が1〜100kV/cmとなされていることを特徴とするグロー放電プラズマ処理方法。
Claim (excerpt):
大気圧近傍の圧力下で、対向電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該対向電極間に電界を印加することによりグロー放電プラズマ処理を行う方法であって、印加される電界がパルス化されたものであり、電圧立ち上がり時間が100μs以下、電界強度が1〜100kV/cmとなされていることを特徴とするグロー放電プラズマ処理方法。
IPC (4):
H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/205
FI (4):
H05H 1/46 A ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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