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J-GLOBAL ID：200903030498636600

パターン検査装置

Inventor： 松野 修三
Applicant, Patent owner： 日本アビオニクス株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996096569
Publication number (International publication number)：1997281053
Application date： Apr. 18, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 パターンの欠落が生じることのない正しい2値画像を得る。【解決手段】 ハロゲンランプから発せられた光は、光ガイド2a、2b、シリンドリカルレンズ3a、3b、偏光フィルタ4a、4bを通過する。偏光フィルタ4a、4bを通過する光は一定方向の偏光のみとなる。グリーンシート7の反射光は散乱光となり、パターン8の反射光は偏光となる。この偏光が最も除去されるように偏光フィルタ5の回転位置を調整することにより、パターン8からの反射光をカットする。シート7からの反射光のみをカメラ1に入射させるため、パターン8の一部で強い反射が生じても、濃淡画像を2値化処理する際にパターンが欠落することがなくなる。

Claim (excerpt)：

基材と基材上に形成された被測定パターンを照らすための照明手段と、前記基材及び被測定パターンを撮像するカメラと、照明手段からの光のうち一定方向の偏光のみを透過させて基材及び被測定パターンに入射させる第1の偏光フィルタと、カメラに入射する基材及び被測定パターンからの反射光のうち特定方向の偏光のみを除去する第2の偏光フィルタとを有することを特徴とするパターン検査装置。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/24

FI (2)：

G01N 21/88 F ,  G01B 11/24 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• パターン検出方法とその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-185234   Applicant：株式会社日立製作所
• 基板の観察装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-317705   Applicant：松下電器産業株式会社