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J-GLOBAL ID:200903030546686983

密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 飯田 敏三 ,  柏木 悠三 ,  佐々木 渉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004174730
Publication number (International publication number):2005350748
Application date: Jun. 11, 2004
Publication date: Dec. 22, 2005
Summary:
【課題】溶射前に基材表面を特定の処理手段を組み合わせた粗面化と清浄化により、基材と得られる溶射皮膜との密着性を改善する溶射方法を提供する。【構成】金属基材表面をブラスト処理し、次いで表面酸化処理を施し、次いで真空アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
金属基材表面をブラスト処理し、次いで表面酸化処理を施し、次いで真空アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。
IPC (3):
C23C4/02 ,  C23C4/04 ,  C23C4/12
FI (3):
C23C4/02 ,  C23C4/04 ,  C23C4/12
F-Term (6):
4K031BA01 ,  4K031BA04 ,  4K031CB11 ,  4K031CB14 ,  4K031DA03 ,  4K031EA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (10)
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