局所化粧用および身体ケア用組成物におけるポリシロキサンブロックコポリマー

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：川口義雄 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000619993
Publication number (International publication number)：2003500504
Application date： May. 08, 2000
Publication date： Jan. 07, 2003
Summary：

【要約】式[A][B]の単位から形成されるポリシロキサンブロックコポリマーを作成する方法であって、式中、Aは、ラジカル重合可能なモノマーから形成されるポリマーブロックであり、Bは、ポリシロキサンブロックであり、ラジカル開始剤を、それぞれポリシロキサン上の基とラジカル開始剤との間の求核置換反応によってポリシロキサン上にグラフト化することによってポリシロキサンマクロ開始剤を形成するステップと、原子移動ラジカル重合反応において、このようにして得られたポリシロキサンマクロ開始剤をラジカル重合可能なモノマー類と反応させて、ポリシロキサンブロックコポリマーを形成するステップとを含む方法。また、ポリシロキサンブロックコポリマーを含んで整髪用組成物などの化粧用および身体ケア用組成物をも提供する。

Claim (excerpt)：

式[A][B]の単位から形成されるポリシロキサンブロックコポリマーを作成する方法であって、式中、Aは、ラジカル重合可能なモノマーから形成されるポリマーブロックであり、Bは、ポリシロキサンブロックであり、ラジカル開始剤を、それぞれポリシロキサン上の基とラジカル開始剤の間の求核置換反応によってポリシロキサン上にグラフト化することにより、ポリシロキサンマクロ開始剤を形成するステップと、原子移動ラジカル重合反応において、このようにして得られたポリシロキサンマクロ開始剤をラジカル重合可能なモノマー類と反応させてポリシロキサンブロックコポリマーを形成するステップとを含む方法。

IPC (4)：

C08F283/12 , A61K 7/00 , A61K 7/11 , C08F 4/40

FI (4)：

C08F283/12 , A61K 7/00 J , A61K 7/11 , C08F 4/40

F-Term (29)：

4C083AD161 , 4C083CC01 , 4C083CC32 , 4J015EA01 , 4J015EA06 , 4J026AB44 , 4J026BA08 , 4J026BA12 , 4J026BA13 , 4J026BA14 , 4J026BA16 , 4J026BA20 , 4J026BA25 , 4J026BA27 , 4J026BA29 , 4J026BA30 , 4J026BA32 , 4J026BA34 , 4J026BA36 , 4J026BA39 , 4J026BA40 , 4J026CA01 , 4J026DB02 , 4J026DB19 , 4J026DB32 , 4J026EA05 , 4J026GA01 , 4J026GA02 , 4J026GA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

制御された重合反応用開始剤の使用方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-602284 Applicant：ダウ・コーニング・コーポレイション
触媒組成物およびポリマーまたはコポリマーの製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-604078 Applicant：ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
熱可塑性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-260427 Applicant：鐘淵化学工業株式会社

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