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J-GLOBAL ID：200903031096333917

成膜装置及び成膜方法

Inventor： 山崎 舜平 ,  福永 健司
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000394259
Publication number (International publication number)：2001247959
Application date： Dec. 26, 2000
Publication date： Sep. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】 膜厚分布の均一性の高い成膜装置を提供する。【解決手段】 長手方向を有する蒸着セルもしくは複数個の蒸着セルを設けた蒸着源を用い、この蒸着源を蒸着源の長手方向と垂直な方向に移動させることで基板上に薄膜を成膜する。蒸着源を長くすることにより長手方向における膜厚分布の均一性が高まり、その蒸着源を移動させて基板全体を成膜するので基板全体の膜厚分布の均一性を向上させることができる。

Claim (excerpt)：

長手方向を有する蒸着源及び前記蒸着源を前記蒸着源の長手方向と垂直な方向に移動させる機構を含むことを特徴とする成膜装置。

IPC (2)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10

FI (4)：

C23C 14/24 C ,  C23C 14/24 D ,  C23C 14/24 E ,  H05B 33/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 有機電界発光素子の製造装置及び製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-016564   Applicant：三菱化学株式会社
• 有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-244244   Applicant：ティーディーケイ株式会社
• 特開昭57-123973
  
• 情報記録媒体の製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-166061   Applicant：日立マクセル株式会社
• 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-054679   Applicant：出光興産株式会社
• 特開昭57-123973