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J-GLOBAL ID:200903031117326118
メタルマスク構造体及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
金田 暢之 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000255781
Publication number (International publication number):2002069619
Application date: Aug. 25, 2000
Publication date: Mar. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 メタルマスクをフレームに溶接するに際し、溶接部が被蒸着基板内に当接する場合、溶接バリ13によるマスクと基板とのギャップを極力少なくし、蒸着パターンのにじみを防止し得るマスク構造体を提供する。【解決手段】 薄層の蒸着用のメタルマスク12が支持フレーム11に溶接されており、少なくとも被蒸着基板内に該溶接部が位置するメタルマスク構造体であって、前記メタルマスクのフレーム当接面の反対の面に、該メタルマスクに凹部12aが形成されており、該凹部内でメタルマスクと支持フレームとが溶接されていることを特徴とする。
Claim (excerpt):
薄層の蒸着用のメタルマスクが支持フレームに溶接されており、少なくとも被蒸着基板内に該溶接部が位置するメタルマスク構造体であって、前記メタルマスクのフレーム当接面の反対の面に、該メタルマスクに凹部が形成されており、該凹部内でメタルマスクと支持フレームとが溶接されていることを特徴とするメタルマスク構造体。
IPC (5):
C23C 14/24
, H01L 21/285
, H05B 33/10
, H05B 33/12
, H05B 33/14
FI (5):
C23C 14/24 G
, H01L 21/285 M
, H05B 33/10
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
F-Term (15):
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029BB03
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029HA02
, 4K029HA03
, 4K029HA04
, 4M104BB36
, 4M104DD33
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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有機電界発光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-094613
Applicant:東レ株式会社
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選択成膜マスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-320202
Applicant:日本電装株式会社
-
真空成膜プロセス装置及び該装置用の搬送キャリア兼マスキング部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-176680
Applicant:キヤノン株式会社
-
特許第2849563号
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Cited by examiner (4)