レーザビーム光源装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：樺山亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999247535
Publication number (International publication number)：2001071553
Application date： Sep. 01, 1999
Publication date： Mar. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】射出光の発光強度がトナー等の侵入により経時的に低下するという問題を解決し、発光強度が安定した長寿命のレーザビーム光源装置を提供する。【解決手段】1つ又は複数の半導体レーザ、あるいは半導体レーザアレイを光源1として有すると共に、該光源より発光されたレーザ光を平行光束あるいは略平行光束にするコリメートレンズ5と、該コリメートレンズを通過した光束を規制するアパーチャ6と、半導体レーザの制御・駆動回路部3を少なくとも有し、それらが1つにユニット化されたレーザビーム光源装置において、アパーチャ6通過後のレーザビーム射出口に該レーザビームが透過可能な光学部材23を配置し、コリメートレンズ5側とその光学部材23のレーザビーム射出側とが空間的に遮蔽されている構成とした。これにより簡単な構成でトナー等の侵入が防止され、発光強度の安定した長寿命のレーザビーム光源装置を得ることができる。

Claim (excerpt)：

半導体レーザを光源として有すると共に、該半導体レーザより発光されたレーザ光を平行光束あるいは略平行光束にするコリメートレンズと、そのコリメートレンズを通過した光束を規制するアパーチャと、前記半導体レーザの駆動回路及び制御回路を少なくとも有し、それらが1つにユニット化されたレーザビーム光源装置において、前記アパーチャ通過後のレーザビーム射出口に該レーザビームが透過可能な光学部材を配置し、コリメートレンズ側とその光学部材のレーザビーム射出側とが空間的に遮蔽されていることを特徴とするレーザビーム光源装置。

IPC (3)：

B41J 2/44 , G02B 26/10 , H01S 5/022

FI (3)：

B41J 3/00 D , G02B 26/10 , H01S 5/022

F-Term (14)：

2C362AA03 , 2C362AA13 , 2C362DA12 , 2C362DA14 , 2H045BA23 , 2H045BA41 , 2H045CA67 , 2H045DA02 , 2H045DA04 , 5F073AB25 , 5F073AB27 , 5F073FA24 , 5F073GA02 , 5F073GA37

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開平3-209788
光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-248735 Applicant：株式会社リコー
特開平4-156415

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