ポジ型感光性組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内田亘彦 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992286045
Publication number (International publication number)：1994095390
Application date： Oct. 23, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【構成】本発明のポジ型感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂、放射線の照射により酸を発生する化合物及び酸分解性溶解阻止剤を含有するポジ型感光性組成物において、該酸分解性溶解阻止剤が特定の芳香族多環状化合物であって、その少なくとも1モル%がアルカリ可溶性基を有する化合物である。【効果】本発明のポジ型感光性組成物は、高感度、高解像力、良好なプロファイルを有し、保存安定性にも優れている。

Claim (excerpt)：

(A)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する分子量3000以下の低分子化合物を含有するポジ型感光性組成物において、該低分子化合物(C)が、(a)酸で分解し得る基を少なくとも2個有し、該酸分解性基間の距離が、最も離れた位置において、酸分解性基を除く結合原子を10個以上経由する化合物、及び、(b)酸で分解し得る基を少なくとも3個有し、該酸分解性基間の距離が最も離れた位置において、酸分解性基を除く結合原子を9個以上経由する化合物であり、その少なくとも10モル%がアルカリ可溶性基を有する化合物から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 503 , G03F 7/028 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-149445
パタン形成材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-227820 Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
新規なベンゾピラン誘導体、これを用いたレジスト材料及びこのレジスト材料を用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-183020 Applicant：和光純薬工業株式会社

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