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J-GLOBAL ID：200903031527912294

偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法

Inventor：
沢村 光治

About 沢村 光治


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001197978
Publication number (International publication number)：2003014932
Application date： Jun. 29, 2001
Publication date： Jan. 15, 2003
Summary：
【要約】【課題】従来の加工法を変更することなく、角度依存性が少なく、偏光分離効率の優れた偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法を提供する。【解決手段】接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜を有する透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに構成した偏光ビームスプリッタにおいて、前記偏光分離膜への光の入射角ΘgがΘg>45度となるように構成する。
Claim (excerpt)：
接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜を有する透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに構成した偏光ビームスプリッタにおいて、前記偏光分離膜への光の入射角ΘgがΘg>45度とされていることを特徴とする偏光ビームスプリッタ。
IPC (4)：
G02B 5/30 ,  G02B 27/28 ,  G03B 21/00 ,  G03B 33/12
FI (4)：
G02B 5/30 ,  G02B 27/28 Z ,  G03B 21/00 E ,  G03B 33/12
F-Term (8)：
2H049BA05 ,  2H049BA43 ,  2H049BB62 ,  2H049BC22 ,  2H099AA12 ,  2H099BA09 ,  2H099CA02 ,  2H099DA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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