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J-GLOBAL ID:200903031725098055

X線ミラーの高精度姿勢制御法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006221714
Publication number (International publication number):2008026294
Application date: Jul. 18, 2006
Publication date: Feb. 07, 2008
Summary:
【課題】硬X線から軟X線のX線を集光し、あるいはX線の光路を変更するための超高精度なX線ミラー若しくはX線光学素子の姿勢、特にX線の入射角度を1μrad以下で一定に保つことが可能なX線ミラーの高精度姿勢制御法を提供する。【解決手段】光源Oと集光点Fを焦点とする楕円形状の反射面からなる集光面帯7が形成された縦方向集光ミラー5と横方向集光ミラーを互に垂直に配置したK-Bミラー配置とし、各集光ミラーの集光面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面9,10でフレネルミラーをそれぞれ構成し、集光面帯による集光ビームに影響されない位置で各集光ミラーのフレネルミラーによる干渉縞13を別々にモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を各集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
硬X線から軟X線のX線を集光スポットが100nm以下の高い空間分解能で集光させるためのX線ミラーの高精度姿勢制御法であって、光源と集光点を焦点とする楕円形状の反射面からなる集光面帯が形成された縦方向集光ミラーと横方向集光ミラーを互に垂直に配置したK-Bミラー配置とし、各集光ミラーの集光面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面でフレネルミラーをそれぞれ構成し、前記集光面帯による集光ビームに影響されない位置で各集光ミラーの前記フレネルミラーによる干渉縞を別々にモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を各集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用することを特徴とするX線ミラーの高精度姿勢制御法。
IPC (1):
G21K 1/06
FI (3):
G21K1/06 P ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 M
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • X線顕微鏡用光学装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-069613   Applicant:キヤノン株式会社

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