Pat
J-GLOBAL ID:200903031778064276

マスク保持装置、ならびにこれを用いた露光装置とデバイス製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 丸島 儀一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993299917
Publication number (International publication number):1995153664
Application date: Nov. 30, 1993
Publication date: Jun. 16, 1995
Summary:
【要約】【目的】 3点支持のチャッキングにおいて、機械的なクランプ機構を用いずに、マスク作製時のEB描画装置への機械的クランプと実質的に同じ状態でX線露光装置へマスクをチャックできるマスク保持装置の提供。【構成】 キネマティックマウントによって、露光用マスクをX線露光装置のマスクチャック保持面に3つの位置で支持する。ここで、マスクチャック側に電磁石からなる磁気ユニットを、マスクフレーム側に磁性リングを、3つの各位置の支持点の周囲に設ける。これにより、マスク保持面の法線方向に磁気吸引する引張力を発生させることができ、マスクをマスクチャックに吸引保持する。
Claim (excerpt):
露光用マスクをマスクチャック保持面に3つの位置で支持するマスク保持装置において、マスクをマスクチャック保持面側に引張る力を発生する手段を、前記3つの位置に対応してそれぞれ設けたことを特徴とするマスク保持装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03B 27/32
FI (2):
H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 541 L
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平4-005659
  • ウェハチャックの取り付け構造
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-062593   Applicant:富士通株式会社
  • 特開昭57-205728
Show all

Return to Previous Page