酸化膜構造体およびその製法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 村山靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004154767
Publication number (International publication number)：2005339885
Application date： May. 25, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】多孔質膜2の立体形状を規則的に制御する。また、このような多孔質膜2を有する酸化膜構造体10、およびその製法を提供する。さらに、この酸化膜構造体10を用いた光電変換効率が高い色素増感太陽電池を提供する。【解決手段】ガラスからなる基板1上に、金属酸化物からなる多孔質膜2が設けられた酸化膜構造体10であって、前記多孔質膜2には凹部3,3,...が形成され、この凹部3,3,...が、多数の小球状の空間が列状に連続して形成された形状である。この酸化膜構造体10は、磁性粒子と金属酸化物微粒子からなるゾルを作製する工程と、このゾルを基板1上に塗布して成膜する工程と、成膜したゾルに磁界を印加しながら、乾燥させる工程と、乾燥したゾルを加熱、焼成することにより、多孔質膜2を形成する工程と、この多孔質膜2の中に含まれる磁性粒子を除去する工程とからなる製法により製造される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板上に、金属酸化物からなる多孔質膜が設けられた酸化膜構造体であって、前記多孔質膜には凹部が形成され、この凹部が、多数の小球状の空間が列状に連続して形成された形状であることを特徴とする酸化膜構造体。

IPC (6)：

H01M14/00 , B82B3/00 , C03C17/34 , C04B38/00 , C23C26/00 , H01L31/04

FI (6)：

H01M14/00 P , B82B3/00 , C03C17/34 Z , C04B38/00 304Z , C23C26/00 Z , H01L31/04 Z

F-Term (38)：

4G019GA02 , 4G059AA01 , 4G059AA13 , 4G059AB09 , 4G059AC01 , 4G059AC14 , 4G059AC30 , 4G059EA01 , 4G059EA02 , 4G059EA03 , 4G059EA04 , 4G059EA18 , 4G059EB05 , 4G059GA01 , 4G059GA05 , 4G059GA12 , 4K044AA12 , 4K044AB10 , 4K044BA12 , 4K044BB11 , 4K044BB13 , 4K044BC14 , 4K044CA53 , 4K044CA57 , 4K044CA62 , 5F051AA14 , 5F051FA02 , 5F051GA03 , 5H032AA06 , 5H032AS06 , 5H032AS16 , 5H032BB02 , 5H032BB05 , 5H032BB06 , 5H032EE02 , 5H032EE07 , 5H032EE16 , 5H032HH04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

多孔質酸化チタン皮膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-352799 Applicant：株式会社ニコン
酸化物膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-352800 Applicant：株式会社ニコン
ナノ構造体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-110512 Applicant：キヤノン株式会社

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