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J-GLOBAL ID：200903031814657521

反射防止膜形成組成物および反射防止膜

Inventor：
藤原 考一

About 藤原 考一

, 
田中 正人

About 田中 正人


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 白井 重隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003056547
Publication number (International publication number)：2004264710
Application date： Mar. 04, 2003
Publication date： Sep. 24, 2004
Summary：
【課題】反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度および精度などに優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物およびそれから形成された反射防止膜を提供すること。【解決手段】(A)下記式(1)で表される構造を有する重合体、ならびに(B)フラーレンおよびフラーレン誘導体から選ばれる少なくともひとつの化合物を含有する反射防止膜形成組成物およびそれから形成された反射防止膜。【化1】【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)下記式(1)で表される構造を有する重合体、ならびに(B)フラーレンおよびフラーレン誘導体から選ばれる少なくともひとつの化合物を含有することを特徴とする、反射防止膜形成組成物。
IPC (3)：
G02B1/11 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027
FI (3)：
G02B1/10 A ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 574
F-Term (7)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  2K009AA02 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  5F046PA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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