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J-GLOBAL ID：200903069597149030

反射防止膜形成用組成物

Inventor： 楠本 士朗 ,  島 基之 ,  勇元 喜次 ,  辻 昭
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996146524
Publication number (International publication number)：1997043839
Application date： May. 17, 1996
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】 保存安定性に優れ、反射防止膜中の放射線吸収性材料が昇華せず、かつホトレジストとのインターミキシングを生じることがなく、ホトレジストと協働して、耐熱性、乾式エッチング性、解像度、精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 (a)放射線吸収性を有する非昇華性微粒子、(b)高分子分散剤および(c)有機溶剤を含有し、前記非昇華性微粒子が有機溶剤中に分散していることを特徴とする集積回路素子の製造に用いられる反射防止膜形成用組成物。

Claim (excerpt)：

(a)放射線吸収性を有する非昇華性微粒子、(b)高分子分散剤および(c)有機溶剤を含有し、前記非昇華性微粒子が有機溶剤中に分散していることを特徴とする集積回路素子の製造に用いられる反射防止膜形成用組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 二層構造レジストを有する基板およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-214271   Applicant：東レ株式会社
• 特開平4-294520
  
• 反射防止膜材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-088202   Applicant：信越化学工業株式会社
• 特開平4-294520