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J-GLOBAL ID:200903031901415062

アルミニウム基体表面にセラミックス皮膜を形成させる方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中村 稔 (外7名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998226700
Publication number (International publication number):2000054193
Application date: Aug. 11, 1998
Publication date: Feb. 22, 2000
Summary:
【要約】【課題】 アルカリ金属を実質的に含有しないすぐれた特性のセラミックス皮膜を、陽極火花放電によってアルミニウム基体表面に形成できる方法を提供すること。【解決手段】 電解浴中でアルミニウム基体を陽極として通電し、火花放電によりアルミニウム基体表面にセラミックス皮膜を形成させる方法であって、コロイダルシリカと含窒素化合物を含有する電解浴中で火花放電することを含むアルミニウム基体表面にセラミックス皮膜を形成させる方法。
Claim (excerpt):
電解浴中でアルミニウム基体を陽極として通電し、火花放電によりアルミニウム基体表面にセラミックス皮膜を形成させる方法であって、コロイダルシリカと含窒素化合物を含有する電解浴中で火花放電することを特徴とする、アルミニウム基体表面にセラミックス皮膜を形成させる方法。
IPC (2):
C25D 11/04 ,  C23C 26/00
FI (2):
C25D 11/04 E ,  C23C 26/00 D
F-Term (7):
4K044AA06 ,  4K044BA14 ,  4K044BB01 ,  4K044CA04 ,  4K044CA17 ,  4K044CA34 ,  4K044CA36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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