パターン欠陥検査方法及びその装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000231382
Publication number (International publication number)：2002039960
Application date： Jul. 27, 2000
Publication date： Feb. 06, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】微細な回路パターンを高い分解能で検出し、欠陥を検出する方法及び装置を提供することにある。【解決手段】試料1の像を検出する対物レンズを含む光学系7と、その対物レンズの瞳に対して照明を行うレーザ光源3と、該レーザ光源から発射したレーザ照明の可干渉性を低減するコヒーレンス低減機構4と、蓄積型の検出器8と、その検出信号を処理する画像処理系12とを備え、前記検出器で検出した情報に基づいて前記試料1に形成されたパターンの欠陥を検出する。

Claim (excerpt)：

複数のレーザ光を発射するレーザ光源手段と、該レーザ光源手段から発射したレーザの可干渉性を低減する可干渉性低減手段と、該可干渉性低減手段で可干渉性を低減したレーザを試料上に照射する照射手段と、該照射手段によりレーザを照射された前記試料の像を検出する像検出手段と、レーザ光源と像検出手段との間に偏光の状態を制御する偏光状態制御手段と、該像検出手段で検出した前記試料の像に関する情報に基いて前記試料に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (5)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , G02B 21/06 , G06T 1/00 305 , G06T 1/00 420

FI (5)：

G01N 21/956 A , G01B 11/30 A , G02B 21/06 , G06T 1/00 305 A , G06T 1/00 420 F

F-Term (80)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065BB03 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065DD06 , 2F065FF04 , 2F065GG04 , 2F065GG23 , 2F065JJ25 , 2F065LL02 , 2F065LL04 , 2F065LL20 , 2F065LL32 , 2F065LL35 , 2F065LL36 , 2F065LL62 , 2F065MM03 , 2F065MM04 , 2F065QQ04 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ41 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA65 , 2G051AB01 , 2G051AB07 , 2G051BA05 , 2G051BA08 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BC06 , 2G051CA03 , 2G051DA07 , 2G051EA14 , 2G051EA16 , 2G051EB01 , 2G051EB03 , 2G051EC01 , 2G051ED11 , 2G051FA02 , 2H052AA07 , 2H052AC01 , 2H052AC02 , 2H052AC04 , 2H052AC12 , 2H052AC15 , 2H052AC25 , 2H052AC26 , 2H052AC34 , 2H052AF02 , 5B047AA12 , 5B047AB02 , 5B047BA02 , 5B047BB02 , 5B047BC05 , 5B047BC09 , 5B047BC11 , 5B047CA05 , 5B047CB11 , 5B047CB17 , 5B047CB25 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057BA12 , 5B057BA19 , 5B057CA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB02 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CH11 , 5B057DA03 , 5B057DC31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-118255 Applicant：株式会社ニコン
異物検査装置及び異物検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-083883 Applicant：ソニー株式会社
マスク欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-164172 Applicant：株式会社東芝

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