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J-GLOBAL ID：200903032082772396

親水化処理用組成物及び親水化処理方法

Inventor：
田幸 昇

About 田幸 昇

, 
近藤 全弘

About 近藤 全弘


Applicant, Patent owner：
関西ペイント株式会社

About 関西ペイント株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999137191
Publication number (International publication number)：2000328038
Application date： May. 18, 1999
Publication date： Nov. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 短時間焼付けでの硬化性に優れ、親水性の持続性、処理被膜の安定性及びドローレス成型性を満足する被膜を形成できる親水化処理用組成物及びこの組成物を用いた熱交換器フィン材の親水化処理方法を提供する。【解決手段】(A)水性ポリアミド樹脂、(B)ポリオキシアルキレン鎖を有する水性樹脂、(C)ポリアクリルアミド系樹脂と、(D)(a)重合性二重結合とポリオキシアルキレン鎖又はポリビニルピロリドン鎖を有する親水性モノマー2〜50重量%、(b)(メタ)アクリルアミド系モノマー20〜97重量%、(c)架橋性不飽和モノマー1〜30重量%、(d)カルボキシル基含有重合性不飽和モノマー2〜50重量%及び(e)他のモノマー0〜50重量%の共重合体からなる親水性架橋重合体微粒子を含有する親水化処理用組成物。
Claim (excerpt)：
(A)水溶性ないしは水分散性ポリアミド樹脂、(B)ポリオキシエチレン鎖及びポリオキシプロピレン鎖のうちの少なくとも1種のポリオキシアルキレン鎖を分子中に40重量%以上有する水溶性ないし水分散性の樹脂、(C)ポリアクリルアミド系樹脂及び(D)(a)1分子中に少なくとも1個の重合性二重結合と、ポリオキシアルキレン鎖又はポリビニルピロリドン鎖を有する親水性モノマー 2〜50重量%、(b)下記式[1]【化1】[式中、R1 は水素原子又はメチル基を表し、R2 およびR3 は同一又は相異なって、それぞれ水素原子又は炭素原子数1〜5のアルキル基を表し、ただしR2 とR3 との炭素原子数の和は5以下である]で示される化合物から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリルアミド系モノマー 20〜97重量%、(c)1分子中に2個以上の重合性不飽和二重結合を有する化合物、ならびに1分子中に加水分解性シリル基、エポキシ基、N-メチロール基及びN-アルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1個の官能基と1個の重合性不飽和二重結合とを有する化合物から選ばれる少なくとも1種の架橋性不飽和モノマー 1〜30重量%、(d)カルボキシル基含有重合性不飽和モノマー 2〜50重量%、及び(e)1分子中に1個の重合性不飽和基を有する、上記(a)、(b)、(c)及び(d)以外の他のモノマー 0〜50重量%の共重合体からなる親水性架橋重合体微粒子を含有することを特徴とする親水化処理用組成物。
IPC (12)：
C09K 3/00 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/14 101 ,  C09D133/10 ,  C09D133/24 ,  C09D171/02 ,  C09D177/00 ,  C09K 3/18 ,  F28F 1/32 ,  F28F 13/18 ,  C08F220/54 ,  C08F290/06
FI (12)：
C09K 3/00 R ,  B05D 5/00 Z ,  B05D 7/14 101 C ,  C09D133/10 ,  C09D133/24 ,  C09D171/02 ,  C09D177/00 ,  C09K 3/18 ,  F28F 1/32 H ,  F28F 13/18 B ,  C08F220/54 ,  C08F290/06
F-Term (115)：
4D075CA37 ,  4D075CA45 ,  4D075DB07 ,  4D075DC19 ,  4D075EA06 ,  4D075EB22 ,  4D075EB39 ,  4D075EB52 ,  4D075EB56 ,  4D075EC35 ,  4H020AA03 ,  4H020AB02 ,  4H020AB05 ,  4J027AC02 ,  4J027AC03 ,  4J027AC04 ,  4J027AC05 ,  4J027AC06 ,  4J027AC09 ,  4J027BA02 ,  4J027BA04 ,  4J027BA05 ,  4J027BA06 ,  4J027BA07 ,  4J027BA08 ,  4J027BA14 ,  4J027BA20 ,  4J027BA21 ,  4J027BA26 ,  4J027CA20 ,  4J027CA25 ,  4J027CA26 ,  4J027CC02 ,  4J027CD08 ,  4J038CG141 ,  4J038CG142 ,  4J038CG171 ,  4J038CG172 ,  4J038CH141 ,  4J038CH142 ,  4J038DF021 ,  4J038DF022 ,  4J038DH002 ,  4J038GA02 ,  4J038GA04 ,  4J038GA07 ,  4J038GA08 ,  4J038GA15 ,  4J038KA03 ,  4J038KA09 ,  4J038MA14 ,  4J038NA04 ,  4J038NA06 ,  4J038NA12 ,  4J038NA23 ,  4J038PB06 ,  4J038PC02 ,  4J100AA02T ,  4J100AA03T ,  4J100AB02T ,  4J100AB03T ,  4J100AB04T ,  4J100AB07Q ,  4J100AB08T ,  4J100AB16R ,  4J100AE02T ,  4J100AE04T ,  4J100AE09Q ,  4J100AE09R ,  4J100AG04T ,  4J100AJ01S ,  4J100AJ02S ,  4J100AJ08S ,  4J100AJ09S ,  4J100AL03T ,  4J100AL04T ,  4J100AL05T ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08T ,  4J100AL09T ,  4J100AL10R ,  4J100AL36S ,  4J100AL44S ,  4J100AL61R ,  4J100AL63R ,  4J100AL66R ,  4J100AL75R ,  4J100AM01T ,  4J100AM02T ,  4J100AM17P ,  4J100AM19P ,  4J100AM21R ,  4J100AM24R ,  4J100AN04Q ,  4J100AP01Q ,  4J100AP16R ,  4J100AS02T ,  4J100AS03T ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06R ,  4J100BA08Q ,  4J100BA08R ,  4J100BA32T ,  4J100BA56Q ,  4J100BA77R ,  4J100BC04T ,  4J100BC54R ,  4J100BC68Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100JA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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