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J-GLOBAL ID:200903032210245728

複数位置から複数のX線ビームを生成するための装置及び方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006533406
Publication number (International publication number):2007504636
Application date: May. 25, 2004
Publication date: Mar. 01, 2007
Summary:
マルチビームX線生成装置は、陰極上に所定のパターンで配置され、固定され個々に制御可能な複数の電子放出ピクセルを有した、固定電界放出陰極と、前記ピクセルの前記所定パターンに対応する、所定パターンで配置された複数の焦点を備えた、前記陰極の反対側に位置する陽極と、前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備える。別の構成は、その少なくとも一部に電子放出物質が配置された平面状の表面を有した固定電界放出陰極と、前記陰極の平面状の表面に対して空間を隔てて平行に設けられ、サイズの異なる複数の開口部を有したゲート電極と、前記陰極と空間を隔てて反対側に位置し、前記電子放出物質に合わせて複数の焦点を有する陽極と、前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備え、前記ゲート電極は、少なくとも1つの焦点及びその登録位置から外れた位置へ、前記陰極から放出された電子の少なくとも1つのビームを送出するように前記開口部を操作できるように、動作可能であるX線生成装置として実現される。関連する方法も開示されている。
Claim (excerpt):
陰極上に所定のパターンで配置され、固定され個々に制御可能な複数の電子放出ピクセルを備えた、固定電界放出陰極と、 前記ピクセルの前記所定パターンに対応する、所定パターンで配置された複数の焦点を備えた、前記陰極の反対側に位置する陽極と、 前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備えることを特徴とするマルチビームX線生成装置。
IPC (3):
H01J 35/06 ,  H01J 1/304 ,  H05G 1/00
FI (4):
H01J35/06 B ,  H01J1/30 F ,  H01J35/06 Z ,  H05G1/00 D
F-Term (13):
4C092AA02 ,  4C092AB30 ,  4C092AC01 ,  4C092AC08 ,  4C092AC17 ,  4C092BD04 ,  4C092BD05 ,  4C092BD09 ,  5C135AA09 ,  5C135AA15 ,  5C135AB07 ,  5C135AC01 ,  5C135HH20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (13)
  • 米国特許第5594770号公報
  • 米国特許(代理人明細書番号033627-003、「真空及び気体の電子機器のためのナノ物質に基づく電界放出陰極」)
  • 米国特許6385292号公報、「固体CTシステム及び方法」
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Cited by examiner (8)
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