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J-GLOBAL ID：200903032498365820

角度分解分光リソグラフィキャラクタライゼイション方法およびデバイス

Inventor： デン ボーフ,アリー,ジェフリー ,  モス,エバーハーダス,コルネリス ,  ヴァン デル シャール,マウリッツ
Applicant, Patent owner： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
Agent (3)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007240597
Publication number (International publication number)：2008109104
Application date： Sep. 18, 2007
Publication date： May. 08, 2008
Summary：

【課題】誤った低いオーバーレイ計算を識別する方法を提供する。【解決手段】スキャトロメータで1次回折次数と0次回折次数の両方が検出される。1次回折次数はオーバーレイエラーを検出するために使用される。その後、これがバイアスより大きくしかし回折格子のピッチより小さい大きさの誤ったオーバーレイエラー計算である場合、フラグを立てるために0次回折次数が使用される。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

基板の性質を測定する方法であって、 放射プロジェクタを用いて基板上に放射を投影すること、および 反射した放射の0次および±n次(但しn>1)を検出すること を含み、前記反射放射は測定すべき性質を示している、方法。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (2)：

H01L21/30 525F ,  H01L21/30 525W

F-Term (4)：

5F046FA04 ,  5F046FA09 ,  5F046FB20 ,  5F046FC04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-235188   Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 特許第6982793号
  
• 多波長光源装置及び光学測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-077310   Applicant：ミノルタ株式会社