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J-GLOBAL ID：200903032792858176

光学装置及びデバイス製造方法

Inventor：
田辺 正幸

About 田辺 正幸


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999283569
Publication number (International publication number)：2001110698
Application date： Oct. 04, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：
【要約】【課題】光学装置内の不純物の濃度を規定し、その不純物濃度を管理することで、少量で必要最低限の純度の不活性ガスによって光学素子表面への不純物の付着による汚染を減少させることが可能な光学装置及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】光学素子の周囲の空間を含む雰囲気の不純物の濃度を検出する検出器を有することを特徴とする光学装置と、前記光学装置によりデバイスパターンで前記ウエハを露光する段階と、該露光したウエハを現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製造方法を構成する。
Claim (excerpt)：
光学素子の周囲の空間を含む雰囲気の不純物の濃度を検出する検出器を有することを特徴とする光学装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G01N 21/15 ,  G03F 7/20 521
FI (4)：
G01N 21/15 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 F
F-Term (17)：
2G057AB03 ,  2G057AB04 ,  2G057AC05 ,  2G057JA03 ,  2G057JA20 ,  5F046AA22 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB24 ,  5F046DA27 ,  5F046DB10 ,  5F046DB14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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