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J-GLOBAL ID:200903033307465869
錫・白金複酸化物およびその製造方法、錫・タングステン複酸化物およびその製造方法、並びに錫・レニューム複酸化物およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
榊原 弘造
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004189143
Publication number (International publication number):2005154252
Application date: Jun. 28, 2004
Publication date: Jun. 16, 2005
Summary:
【課題】微細なPt粒子をSnO2中に高分散で多量に存在させることができる新規な錫・白金複酸化物およびその製造方法を提供する。【解決手段】例えば、酸素を含有する不活性スパッタガス中でSnO2とPtとを同時スパッタで成膜して合成することにより、一般式SnXPt(1-X)O2(0.6<X<0.99)で示されるルチル構造を有する錫・白金複酸化物を合成する。詳細には、ルチル構造であるSnO2のSnサイトに多量のPtを固溶した新規なSnO2(SnXPt(1-X)O2)を合成することにより、微細なPt粒子をSnO2中に高分散で多量に存在させることが達成される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
一般式
SnXPt(1-X)O2
(0.6<X<0.99)
で示されるルチル構造を有することを特徴とする錫・白金複酸化物。
IPC (4):
C01G55/00
, C01G41/00
, C01G47/00
, C23C14/08
FI (4):
C01G55/00
, C01G41/00 A
, C01G47/00
, C23C14/08 K
F-Term (10):
4G048AA03
, 4G048AB01
, 4G048AC08
, 4K029BA50
, 4K029BA64
, 4K029BC00
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC05
, 4K029DC15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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Journal of Catalysis 130,(1991年)314ページ
-
触媒、vol.35,No.3(1993年)206ページ
-
日本化学学会誌、No.10,(1980年)1597ページ
-
Material Science and Engineering,B57(1998年)76ページ
-
Chem. Mater. Vol.13,No.11(2001年)4355ページ
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薄膜ガスセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-096952
Applicant:富士電機株式会社
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『金属酸化物と複合酸化物』田部浩三他著、講談社発行、P200〜P211、P230〜P235
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『電気伝導性酸化物』津田惟雄他著、裳華房発行、P26,2-2表
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Cited by examiner (5)
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薄膜ガスセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-370935
Applicant:富士電機機器制御株式会社
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薄膜ガスセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-096952
Applicant:富士電機株式会社
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透明導電性薄膜形成用焼結体ターゲット、その製造方法、及びそれより得られる透明導電性薄膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-077586
Applicant:住友金属鉱山株式会社
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薄膜半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-187884
Applicant:富士通株式会社
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錫系複合酸化物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-308109
Applicant:株式会社トクヤマ
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Article cited by the Patent:
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