欠陥評価装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡部正夫 (外11名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997266466
Publication number (International publication number)：1999108847
Application date： Sep. 30, 1997
Publication date： Apr. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】欠陥評価装置において、被検物体の欠陥や異物を分離することができ、かつ、欠陥の形状の情報を得ることができるようにする。【解決手段】上記課題を解決するために、本発明では、被検物体にレーザ光を斜めに照射するレーザ照射手段と、被検物体内部または表面からの散乱光を観察する観察手段とを有する欠陥評価装置において、レーザ照射手段は、被検物体に対して観察光学軸の周りの複数の入射方向からレーザ光を照射し、観察手段は、被検物体からの散乱光を受光して、被検物体内部または表面の欠陥等の形状情報を得る。

Claim (excerpt)：

被検物体にレーザ光を斜めに照射するレーザ照射手段と、該被検物体内部または表面からの散乱光を観察する観察手段とを有する欠陥評価装置において、該レーザ照射手段は、該被検物体に対して観察光学軸の周りの複数の入射方向からレーザ光を照射し、該観察手段は、該被検物体からの散乱光を受光して、該被検物体内部または表面の欠陥等の形状情報を得ることを特徴とする欠陥評価装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭62-223650
特開昭63-124942
特開昭62-070738

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