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J-GLOBAL ID：200903033510867271

プラズマ処理装置

Inventor： 田村 仁 ,  上村 隆 ,  佐々木 一郎 ,  佐々木 新治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995052250
Publication number (International publication number)：1996246169
Application date： Mar. 13, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【構成】プラズマ処理装置の状態およびプラズマ処理の状態を検知、推定する機構、および前記機構からの情報により最適な運転条件を求める機構により構成される。【効果】最適な運転条件を算出することにより長期間に渡り安定に高い性能を維持することができる。

Claim (excerpt)：

プラズマ処理装置の状態を測定する機能、被処理物の処理状態を検出する機能、装置状態および被処理物の状態から最適な運転状態を算出しこれを実現する機能を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4)：

C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (4)：

C23F 4/00 A ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• プラズマ処理方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-360284   Applicant：国際電気株式会社
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-135881   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-212414