Pat
J-GLOBAL ID:200903033993913236
ロードロック装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
油井 透 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998308487
Publication number (International publication number):2000126581
Application date: Oct. 29, 1998
Publication date: May. 09, 2000
Summary:
【要約】【課題】 基板へのパーティクルの付着を軽減することができるとともに、大気戻し時間も短縮することができるようにする。【解決手段】 ロードロック装置は、ロードロック槽11と、ステージ12と、ガス吹出し部13とを有する。ロードロック槽11は、ガラス基板Gを収容するための密閉された空間を形成する。ステージ12は、ロードロック槽11の内部に設けられる。このステージ12には、ガラス基板Gが載置される。ガス吹出し部13は、ロードロック槽11の内部の圧力を大気圧に戻すためのガスをロードロック槽11の内部に吹き出すガス吹出し口17を有する。このガス吹出し口17は、ステージ12に載置されたガラス基板Gの周囲に設けられるとともに、上方に設けられている。
Claim (excerpt):
基板に所定の処理を施すための処理空間が大気に触れるのを防止するためのロードロック装置において、前記基板を収容するための密閉された基板収容空間を形成する真空容器と、この真空容器の内部に設けられ、前記基板が載置される基板載置部と、前記真空容器の内部の圧力を大気圧に戻すためのガスを前記真空容器の内部に吹き出すためのガス吹出し口を有し、このガス吹出し口が前記基板載置部に載置された前記基板の周囲に形成されているガス吹出し部とを備えたことを特徴とするロードロック装置。
IPC (4):
B01J 3/02
, C23C 14/00
, C23C 16/455
, H01L 21/68
FI (4):
B01J 3/02 M
, C23C 14/00 B
, C23C 16/44 D
, H01L 21/68 A
F-Term (31):
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029DA05
, 4K029DA06
, 4K029DA09
, 4K029JA00
, 4K029KA01
, 4K029KA09
, 4K030CA06
, 4K030CA17
, 4K030EA05
, 4K030EA06
, 4K030GA01
, 4K030GA12
, 4K030JA09
, 4K030KA12
, 4K030KA45
, 4K030KA49
, 4K030LA18
, 5F031CA05
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA12
, 5F031MA29
, 5F031NA02
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031NA07
, 5F031NA16
, 5F031NA17
, 5F031PA26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
枚葉式ロードロック装置及び基板清浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-165211
Applicant:株式会社日本製鋼所
-
特開平4-329877
-
特開平2-184333
-
特開平4-363127
-
半導体製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-178476
Applicant:株式会社東芝
Show all
Return to Previous Page