枚葉式ロードロック装置及び基板清浄化方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：曾我道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998165211
Publication number (International publication number)：1999217670
Application date： Jun. 12, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】パーティクルを迅速に除去し基板を清浄に保つことができる枚葉式ロードロック装置の提供。【解決手段】ノズル付きフランジ25中心から基板1外周に向かって、ガスを吹き出す噴射ノズル40を有し、基板1外周部における基板1とノズル付きフランジ内壁41の隙間は3mm以下であり、基板テーブル24中心に排気ポート29Aを有している、真空容器21の上部に設けられた開口部を真空容器21内側から密閉する基板テーブル24と真空容器21外側から密閉するノズル付きフランジ25とで形成された小部屋60に基板1を挿入し、小部屋60を粗引き後基板テーブル24が下降し本排気を行う、枚葉式ロードロック装置。

Claim (excerpt)：

真空容器(21)の上部に設けられた開口部を前記真空容器(21)内側から密閉する基板テーブル(24)と前記真空容器(21)外側から密閉するノズル付きフランジ(25)とで形成された小部屋(60)に基板(1)を挿入し、前記小部屋(60)を粗引き後基板テーブル(24)が下降し本排気を行う枚葉式ロードロック装置において、前記ノズル付きフランジ(25)中心から前記基板(1)外周に向かって、ガスを吹き出す噴射ノズル(40)を有し、基板(1)外周部における基板(1)とノズル付きフランジ内壁(41)の隙間は3mm以下であり、基板テーブル(24)中心に排気ポート(29A)を有していることを特徴とする枚葉式ロードロック装置。

IPC (3)：

C23C 14/56 , H01L 21/68 , B08B 5/02

FI (3)：

C23C 14/56 F , H01L 21/68 A , B08B 5/02 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

成膜処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-057003 Applicant：東京エレクトロン株式会社
物品を移送するためのロードロック装置および方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-264129 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
真空処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-308897 Applicant：テル・バリアン株式会社

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