X線発生方法およびX線発生装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：関正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002073364
Publication number (International publication number)：2003272892
Application date： Mar. 15, 2002
Publication date： Sep. 26, 2003
Summary：

【要約】【課題】超短光パルスレーザなどをターゲットに照射してX線を発生させる装置において、X線の強度、特に必要とする特定波長のX線強度を選択的に制御するようにパルスレーザを調整する機構を備えたX線発生装置を提供する。【解決手段】 X線分光器10によりX線強度特性を測定し、特定波長のX線強度の測定結果を制御装置14にフィードバックして、空間位相分布調整機構3により光伝送路中で光軸に垂直な方向に広がったレーザ光束の部分毎に実効的な光路長を変化させることにより、ターゲット7上の集光位置におけるレーザビームの時間波形を制御して、特定波長のX線強度が適正なものとなるようにする。

Claim (excerpt)：

レーザビームをターゲットに集光照射してX線を発生させるX線発生装置において、スペクトルがレーザビームの伝送路中で光軸に垂直な方向に広がりフーリエ面を形成する光束の部分毎に実効的な光路長を変化させて空間位相分布を調整して前記ターゲットに集光した位置における該レーザビームのパルス時間波形を所定のパターンに整形し、前記調整後のレーザビームを収束してターゲットに集光する方法であって、発生するX線の強度特性を測定し、該測定結果に基づいてX線強度が適正なものとなるように該レーザビームのパルス時間波形を調整することを特徴とするX線発生方法。

IPC (7)：

H05G 2/00 , G02B 26/06 , G02B 26/08 , G21K 5/02 , H01L 21/027 , H01S 3/00 , H05H 1/24

FI (7)：

G02B 26/06 , G02B 26/08 J , G21K 5/02 X , H01S 3/00 Z , H05H 1/24 , H05G 1/00 K , H01L 21/30 531 S

F-Term (23)：

2H041AA23 , 2H041AB12 , 2H041AB38 , 2H041AC08 , 2H041AZ05 , 4C092AA06 , 4C092AA17 , 4C092AB22 , 4C092AC09 , 4C092AC20 , 4C092CC03 , 4C092CD10 , 4C092CE20 , 4C092CF02 , 4C092CF47 , 5F046GC05 , 5F072HH07 , 5F072JJ02 , 5F072KK05 , 5F072KK07 , 5F072KK15 , 5F072RR07 , 5F072SS08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

レーザプラズマ光源及びこれを用いた輻射線発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-064256 Applicant：工業技術院長, 富江敏尚
レーザプラズマ軟X線のエネルギー測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-313437 Applicant：株式会社トヨタマックス, 株式会社豊田中央研究所
パルスX線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-343482 Applicant：株式会社ニコン

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