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J-GLOBAL ID：200903058821392946

レーザプラズマX線発生装置

Inventor：
後藤 哲男

About 後藤 哲男


Applicant, Patent owner：
有限会社サイファー社

About 有限会社サイファー社


Agent (1)： 後藤 洋介 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999311277
Publication number (International publication number)：2001135877
Application date： Nov. 01, 1999
Publication date： May. 18, 2001
Summary：
【要約】【課題】 ターゲット材から飛散した高速の微粒子によりX線光学素子が損傷を受けることなく、かつ、高繰返しでも連続して安定した高い平均出力のレーザプラズマX線を発生することができる。【解決手段】 レーザプラズマを生成する主パルスレーザ光が主パルスレーザ発生装置121から集光照射点110に集光照射された際にターゲットから放出されたターゲット材112の破片微粒子を、蒸散用パルスレーザ発生装置131が生成する蒸散用パルスレーザ光の照射により加熱し、破片微粒子を蒸発・気化させている。蒸散用パルスレーザ光の照射は制御装置125により主パルスレーザ発生装置121と同期して時間的に調整されている。更に、破片微粒子が放出される領域を照明光源141が照射し、この照明を受けて検出器143が破片微粒子の発生を検出して制御装置125へ通知している。
Claim (excerpt)：
固体または液体の物質をターゲットとしてこれに高尖頭パワーを有する繰り返しパルスレーザ光を集中照射して生じたプラズマからレーザプラズマX線を発生するレーザプラズマX線発生装置において、プラズマを発生させる前記パルスレーザ光を主パルスレーザ光として発生する主パルスレーザ発生装置と、ターゲット表面から放出されるターゲット材微粒子を加熱して蒸発気化させる蒸散用パルスレーザ光を発生する蒸散用パルスレーザ発生装置と、前記主パルスレーザ光に対し時間的に遅延して前記ターゲットの集光照射された表面近傍を通過する前記ターゲットを避けた光路に、前記蒸散用パルスレーザ光を導光し前記表面近傍に向けて集光する光学系部材と、前記蒸散用パルスレーザ発生装置に通知して導光される前記蒸散用パルスレーザ光の遅延時間、パルス時間幅、およびパルスエネルギーを調整する制御装置とを備えることを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。
IPC (4)：
H01S 3/00 ,  H01S 3/10 ,  H05G 2/00 ,  H05G 1/02
FI (4)：
H01S 3/00 A ,  H01S 3/10 A ,  H05G 1/02 ,  H05G 1/00 K
F-Term (13)：
4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB21 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ03 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK30 ,  5F072MM17 ,  5F072RR01 ,  5F072RR07 ,  5F072SS06 ,  5F072YY20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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