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J-GLOBAL ID:200903034249874679

電子機器およびその作製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997240505
Publication number (International publication number):1999064890
Application date: Aug. 20, 1997
Publication date: Mar. 05, 1999
Summary:
【要約】【課題】 高寿命・高品質な画素部を備えた電子機器を提供する。【解決手段】 基板100上には、画素毎にアクティブ素子としてTFTが形成される。層間絶縁膜114を介してTFTのドレイン電極113と金属材料でなる画素電極115とが接続されている。隣接する金属材料でなる画素電極115の隙間において、層間絶縁膜114には溝部が形成されている。この溝部と画素電極115の隙間に光吸収物122が埋め込まれている。光吸収物122では光は反射されないため、画素電極115以外での反射光が無くなり、高コントラストの表示ができる。また画素電極115を光吸収物122によって光が完全に遮蔽できるため、TFTの光劣化が防止できる。
Claim (excerpt):
複数のアクティブ素子と、前記複数のアクティブ素子を覆う絶縁物層と、前記絶縁物層上に形成された複数の画素電極とが配置された画素領域を有する電子機器であって、前記絶縁物層には、隣接する前記画素電極の隙間と重なる空隙を有する溝部が設けられ、前記溝部には、絶縁性の光吸収物が埋め込まれていることを特徴とする電子機器。
IPC (5):
G02F 1/136 500 ,  G02B 5/00 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335 500 ,  G09F 9/30 349
FI (5):
G02F 1/136 500 ,  G02B 5/00 B ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335 500 ,  G09F 9/30 349 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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