Pat
J-GLOBAL ID:200903034297137619
干渉検出装置、トモグラフィー装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000046831
Publication number (International publication number):2001227911
Application date: Feb. 18, 2000
Publication date: Aug. 24, 2001
Summary:
【要約】【課題】 光の干渉を利用した試料の内部構造の測定を短時間で行う。【解決手段】 周波数f1の第1の信号を用いて周波数f1間隔ごとに側帯波を有する参照光を生成する第1の光周波数コム発生器5と、周波数f2の第2の信号を用いて周波数f2間隔ごとに側帯波を有する物体光を生成する第2の光周波数コム発生器6と、参照光と物体光との干渉タイミングを第1の信号及び第2の信号間の位相差又は周波数差を変化させて干渉光の干渉による光強度の変化を検出することにより、電気的に参照光と物体光との間の出射タイミングの掃引を行い、干渉位置を検出するときの動作を高速とする。
Claim (excerpt):
可干渉性を有する光を出射する光源と、周波数f1の第1の信号を生成する第1の信号生成手段と、上記第1の信号生成手段からの第1の信号を用いて上記光源からの光を変調して、上記光源からの光に周波数f1間隔ごとに側帯波を有する参照光を生成する第1の光周波数コム発生手段と、周波数f2の第2の信号を生成する第2の信号生成手段と、上記第2の信号生成手段からの第2の信号を用いて上記光源からの光を変調して、上記光源からの光に周波数f2間隔ごとに側帯波を有する物体光を生成する第2の光周波数コム発生手段と、上記第1の光周波数コム発生手段からの参照光と、上記第2の光周波数コム発生手段で生成され被測定物体で反射された物体光と、を合成した干渉光を生成する合成手段と、上記第1の光周波数コム発生手段からの参照光と上記第2の光周波数コム発生手段からの物体光との干渉タイミングを第1の信号及び第2の信号間の位相差又は周波数差を制御して上記干渉光の干渉による光強度の変化を検出する検出手段とを備えることを特徴とする干渉検出装置。
IPC (2):
FI (2):
G01B 11/00 G
, G01N 21/45 A
F-Term (45):
2F065AA30
, 2F065AA51
, 2F065AA52
, 2F065DD04
, 2F065DD06
, 2F065FF32
, 2F065FF52
, 2F065GG04
, 2F065GG08
, 2F065GG23
, 2F065HH13
, 2F065JJ01
, 2F065JJ09
, 2F065LL00
, 2F065LL12
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2F065LL53
, 2F065LL57
, 2F065MM16
, 2F065NN02
, 2F065NN05
, 2F065NN06
, 2F065NN08
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ16
, 2F065QQ32
, 2F065QQ33
, 2G059AA02
, 2G059BB08
, 2G059CC20
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE12
, 2G059FF08
, 2G059GG01
, 2G059GG06
, 2G059GG08
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059JJ18
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
, 2G059MM09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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位置ずれの計測方法、及び計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-023677
Applicant:株式会社ニコン
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計測装置及び計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-187774
Applicant:ソニー株式会社
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