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J-GLOBAL ID：200903034420215050

表面処理方法及び装置

Inventor： 福永 明 ,  大野 晴子 ,  加藤 利幸
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999052868
Publication number (International publication number)：2000246194
Application date： Mar. 01, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】 薬品を使用することなく、また被処理材に汚染を生じさせず、かつ超純水の使用量の増大を招くことなく表面処理を継続的に行うことができる表面処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 被処理材12の被処理面12aをイオン交換体16aの存在下で超純水16と接触させ、該被処理面から溶出するイオン状物質を該イオン交換体によって処理させて前記被処理面からのイオン状物質の溶出を継続させる。

Claim (excerpt)：

被処理材の被処理面をイオン交換体の存在下で超純水と接触させ、該被処理面から溶出するイオン状物質を該イオン交換体によって処理させて前記被処理面からのイオン状物質の溶出を継続させることを特徴とする表面処理方法。

IPC (3)：

B08B 3/08 ,  C23G 1/36 ,  H01L 21/304 641

FI (3)：

B08B 3/08 A ,  C23G 1/36 ,  H01L 21/304 641

F-Term (16)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB05 ,  3B201BB89 ,  3B201BB93 ,  4K053PA01 ,  4K053PA06 ,  4K053QA04 ,  4K053RA07 ,  4K053SA06 ,  4K053YA13 ,  4K053ZA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-209820
  
• シリコンウエハ洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-054565   Applicant：オルガノ株式会社
• 洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-315389   Applicant：富士通株式会社