洗浄方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋敬四郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995315389
Publication number (International publication number)：1997162148
Application date： Dec. 04, 1995
Publication date： Jun. 20, 1997
Summary：

【要約】【課題】洗浄対象物へ与えるダメージの少ない洗浄方法を提供する。【解決手段】イオン分離膜によって相互に分離された第1の槽と第2の槽の中に電解質溶液を収容する工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を陰極側、前記第2の槽内の電解質溶液を陽極側として、電気分解を行う工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を洗浄対象物表面に接触させる洗浄工程とを有する。

Claim (excerpt)：

イオン分離膜によって相互に分離された第1の槽と第2の槽の中に電解質溶液を収容する工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を陰極側、前記第2の槽内の電解質溶液を陽極側として、電気分解を行う工程と、前記第1の槽内の電解質溶液を洗浄対象物表面に接触させる洗浄工程とを有する洗浄方法。

IPC (8)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/04 , C23F 1/32 , C23G 1/14 , C25F 1/00 , H01L 21/3063 , H01L 21/308

FI (9)：

H01L 21/304 341 M , H01L 21/304 341 L , H01L 21/304 341 T , B08B 3/04 Z , C23F 1/32 , C23G 1/14 , C25F 1/00 Z , H01L 21/308 F , H01L 21/306 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ウェット処理方法及び処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-105991 Applicant：日本電気株式会社
電解活性水処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-056108 Applicant：日本電気株式会社
半導体基板のウエット処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-056109 Applicant：日本電気株式会社

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