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J-GLOBAL ID:200903034590357720

イオンプラズマ蒸着装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  西山 雅也
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003545857
Publication number (International publication number):2005509752
Application date: Nov. 15, 2002
Publication date: Apr. 14, 2005
Summary:
陰極アーク蒸着を用いて、基板(40)の表面上に薄膜を蒸着させる方法および装置(10)。この方法および装置(10)は、真空チャンバ内(12)に配置され、ターゲット材料の陰極(14)であって、電力を供給されて電気アークを生成し、前記成分粒子のプラズマを生成する陰極を含む。このプラズマ成分は、陰極(14)を囲む少なくとも1つの第一陽極、この第一陽極に隣接して配置された第二陽極によって生成される電磁場によって選択され、制御され、そして基板に向けられる。追加の陽極構造および可変帯電スクリーンを用いて、プラズマ成分を更に制御することもできる。また、触媒層、導電層、および重合体陽子交換膜を用いるタイプの燃料電池を製造するための方法および装置(10)の使用も開示する。
Claim (excerpt):
陰極から基板に到達するプラズマ成分の蒸着を選択的に制御することにより、1つ又は複数の薄膜材料を基板内又は基板上に適用するプラズマ蒸着装置であって、 (a)真空チャンバと、 (b)前記真空チャンバ内に配設され、ターゲット材料から構成された陰極であって、電力を供給されて電気アークを生成し、前記成分粒子のプラズマを生成する陰極と、 (c)前記真空チャンバ内に配設された少なくとも1つの第1陽極であって、前記陰極と前記第1陽極間に電磁場を生成し、前記帯電した成分粒子のフローをガイドする少なくとも1つの第1陽極と、 (d)前記第1陽極に隣接配置された少なくとも1つの第2陽極構造であって、電磁場を生成し、前記帯電した成分粒子を蒸着のために前記基板にガイドする少なくとも1つの第2陽極構造と、 (e)前記第2陽極に隣接して配置され、前記基板に対する中性成分粒子のフローを制御する少なくとも1つの壁及びスクリーンと、 を有するプラズマ蒸着装置。
IPC (3):
C23C14/24 ,  B01J37/02 ,  H01M8/02
FI (3):
C23C14/24 F ,  B01J37/02 301P ,  H01M8/02 E
F-Term (50):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08A ,  4G069BC70A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069CC32 ,  4G069DA06 ,  4G069EE01 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FA03 ,  4G069FB02 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA08A ,  4G169BC70A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169CC32 ,  4G169DA06 ,  4G169EE01 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4K029AA02 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA02 ,  4K029BA04 ,  4K029BA05 ,  4K029BA07 ,  4K029BA08 ,  4K029BA13 ,  4K029BA17 ,  4K029BA34 ,  4K029BD00 ,  4K029CA03 ,  4K029CA13 ,  4K029DA10 ,  4K029DD06 ,  4K029JA03 ,  5H026AA06 ,  5H026BB04 ,  5H026CX04 ,  5H026EE02 ,  5H026EE06 ,  5H026HH09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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