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J-GLOBAL ID：200903034749226274

清浄水の連続製造方法及び装置

Inventor：
三宅 正起

About 三宅 正起

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武藤 徳男

About 武藤 徳男

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早田 保義

About 早田 保義

, 
筬島 豊

About 筬島 豊


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004015296
Publication number (International publication number)：2005205328
Application date： Jan. 23, 2004
Publication date： Aug. 04, 2005
Summary：
【課題】 従来複数の工程が必要であった水の脱臭処理、脱酸素処理及び殺菌処理を、一の装置を用いて一度の処理で行えるようにし、しかも薬剤等の残留しない高度な清浄水を得る。 【解決手段】a)加圧下で、被処理水に対して25%以上の体積流量比で液体二酸化炭素を被処理水に投入し、b)二酸化炭素を投入した被処理水を所定温度に加熱して二酸化炭素を超臨界状態にし、c)加熱後の被処理水をその状態で所定の時間保持し、被処理水が含有する臭い成分のうち、二酸化炭素と化学的親和性の高い成分を二酸化炭素に溶解させるとともに、被処理水中の微生物を殺菌し、d)保持工程を経た被処理水を急速に大気圧まで減圧し、二酸化炭素を被処理水から分離することにより、上記臭い成分及び溶存酸素を被処理水から除去する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
a)加圧した被処理水を処理槽に連続的に流入及び流出させつつ、被処理水に対して25%以上の体積流量比で液体二酸化炭素を処理槽中の被処理水に投入し、 b)液体二酸化炭素が超臨界状態となるように処理槽から流出した被処理水を所定温度以上に加熱し、 c)前記被処理水を所定長さ以上のチューブを通すことにより所定時間以上保持し、 d)その後、急速に大気圧まで減圧することにより、被処理水から二酸化炭素を排出して清浄水を得る、 工程を有することを特徴とする清浄水の連続製造方法。
IPC (5)：
C02F1/26 ,  B01D11/00 ,  B01D19/00 ,  B01J3/00 ,  C02F1/20
FI (6)：
C02F1/26 A ,  B01D11/00 ,  B01D19/00 F ,  B01D19/00 101 ,  B01J3/00 A ,  C02F1/20 A
F-Term (32)：
4D011AA15 ,  4D011AA16 ,  4D011AB01 ,  4D011AC06 ,  4D011AD03 ,  4D011AD06 ,  4D037AA01 ,  4D037AB03 ,  4D037AB04 ,  4D037AB11 ,  4D037BA11 ,  4D037BA23 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037BB06 ,  4D037BB07 ,  4D056AB11 ,  4D056AC24 ,  4D056BA16 ,  4D056CA15 ,  4D056CA20 ,  4D056CA21 ,  4D056CA22 ,  4D056CA31 ,  4D056CA33 ,  4D056CA34 ,  4D056CA37 ,  4D056CA39 ,  4D056CA40 ,  4D056DA01 ,  4D056DA02 ,  4D056DA03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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