Pat

J-GLOBAL ID：200903034973911381

光学素子及びその製造方法

Inventor： 鈴木 俊夫 ,  菅田 陽子 ,  小川 ▲琢▼哉 ,  櫛引 信男
Applicant, Patent owner： ダウ コーニング アジア株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994099871
Publication number (International publication number)：1995306301
Application date： May. 13, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 樹脂加工分野で広く知られている加工方法を適用できるケイ素系重合体から得られる光学素子を提供する。【構成】 RSiO3/2 (ここにRは有機置換基)を主な構成単位とし、ケイ素原子に結合した置換基の内10〜99.99モル%が芳香族基であり、400nm〜850nmの波長領域において88%以上の透過率を有し、且つ曲げ弾性率が50MPa 以上であり、熱変形温度が200°C以上であるケイ素系樹脂からなる光学素子。

Claim (excerpt)：

RSiO3/2 (ここにRは有機置換基である)を主な構成単位とし、ケイ素原子に結合した置換基の内10〜99.99モル%が芳香族基であり、400nm〜850nmの波長領域において88%以上の透過率を有し、且つ曲げ弾性率が50MPa 以上であり、熱変形温度が200°C以上であるケイ素系樹脂からなる光学素子。

IPC (2)：

G02B 1/04 ,  C08G 77/38 NUF

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開平3-144405
  
• 特開昭54-130948
  
• 光学素子用樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-083100   Applicant：ダウコーニングアジア株式会社
• 特開平3-144404
  
• 特開平4-213405
  
• 光フアイバ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-322534   Applicant：信越化学工業株式会社, 日立電線株式会社
• 特開平4-211454
  
• オルガノポリシロキサン組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-163116   Applicant：信越化学工業株式会社
• オルガノポリシロキサン組成物及び光ファイバ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-345207   Applicant：信越化学工業株式会社