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J-GLOBAL ID：200903035038050129

材料内部の格子欠陥観察方法

Inventor：
川田 善正

About 川田 善正


Applicant, Patent owner：
科学技術振興事業団

About 科学技術振興事業団


Agent (1)： 小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001396865
Publication number (International publication number)：2003194718
Application date： Dec. 27, 2001
Publication date： Jul. 09, 2003
Summary：
【要約】【目的】 多光子励起でフォトルミネッセンスを発生させ、材料内部の三次元的な観察により半導体材料の内部格子欠陥を検出する。【構成】 試料Sのバンドギャップに対応する光よりも長波長λexのレーザビームを試料Sの表層部に集光し、多光子励起でフォトルミネッセンスλphを発生させる。集光スポットを三次元的に移動させながらフォトルミネッセンスλphを画像解析することにより、内部格子欠陥の三次元構造が観察される。
Claim (excerpt)：
試料のバンドギャップに対応する光よりも長波長のレーザビームを試料の表層部に集光し、多光子励起で試料からフォトルミネッセンスを発生させ、集光スポットを三次元的に移動させながら内部格子欠陥の三次元構造を観察することを特徴とする材料内部の格子欠陥観察方法。
IPC (4)：
G01N 21/63 ,  G02B 21/06 ,  G02B 21/36 ,  H01L 21/66
FI (4)：
G01N 21/63 A ,  G02B 21/06 ,  G02B 21/36 ,  H01L 21/66 N
F-Term (31)：
2G043AA03 ,  2G043BA01 ,  2G043BA07 ,  2G043CA05 ,  2G043EA01 ,  2G043FA01 ,  2G043GA01 ,  2G043GB01 ,  2G043GB19 ,  2G043HA01 ,  2G043HA06 ,  2G043HA15 ,  2G043JA03 ,  2G043KA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05 ,  2G043KA08 ,  2G043KA09 ,  2G043LA02 ,  2G043MA16 ,  2H052AC04 ,  2H052AC15 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AF14 ,  2H052AF21 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA20 ,  4M106CB19 ,  4M106DH32
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 特開平2-268256
  • 試料の内部欠陥評価装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-172184   Applicant：株式会社神戸製鋼所
  • 組込み短パルスレーザをもつハイコンパクトレーザ走査型顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-218394   Applicant：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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