炭素分子体及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：八田幹雄 , 野上敦 , 奈良泰男 , 齋藤悦子 , 宇谷勝幸 , 藤井敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004037053
Publication number (International publication number)：2004244311
Application date： Feb. 13, 2004
Publication date： Sep. 02, 2004
Summary：

【課題】炭素分子体及びその製造方法を提供する。【解決手段】微細気孔分率を容易に上昇させられる、炭素分子体製造のための第1方法;微細気孔を容易に増加させられて構造規則性を向上させられる、炭素分子体の製造のための第2方法;微細気孔分率の上昇した炭素分子体;微細気孔分率が上昇して構造規則性が保持される炭素分子体。炭素分子体を採用した燃料電池用触媒及び炭素分子体を採用した燃料電池用触媒を採用して燃料電池が提供される。【選択図】図2A

Claim (excerpt)：

(a)メソポーラスシリカ分子体である鋳型の気孔に、シリカオリゴマー、縮重合されうる炭素含有化合物である炭素前駆物質及び液状のキャリアを含む混合物を含浸する段階と、 (b)前記鋳型内の前記炭素前駆物質を重合し、前記鋳型の気孔内に前記炭素前駆物質重合体を形成する段階と、 (c)前記鋳型内の炭素前駆物質重合体を熱分解して炭化する段階と、 (d)前記鋳型及びシリカオリゴマーを、シリカだけを選択的に溶解する溶液で処理して除去する段階と、を含む炭素分子体の製造方法。

IPC (8)：

C04B35/52 , B01J29/03 , C01B31/02 , C01B37/00 , C04B38/04 , C04B41/88 , H01M4/90 , H01M4/96

FI (8)：

C04B35/52 A , B01J29/03 M , C01B31/02 101A , C01B37/00 , C04B38/04 B , C04B41/88 S , H01M4/90 X , H01M4/96 B

F-Term (96)：

4G069AA01 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA07A , 4G069BA07B , 4G069BA08A , 4G069BA08B , 4G069BB02B , 4G069BC75B , 4G069BD04A , 4G069BD04B , 4G069CC32 , 4G069EC05Y , 4G069EC08X , 4G069EC08Y , 4G069EC18X , 4G069EC18Y , 4G069FB16 , 4G069FB18 , 4G069FB20 , 4G069FB34 , 4G069FB49 , 4G069FC07 , 4G069ZA43A , 4G069ZA43B , 4G073BA62 , 4G073CZ53 , 4G073GA12 , 4G073GA14 , 4G073UA02 , 4G132AA01 , 4G132AA13 , 4G132AA14 , 4G132AA19 , 4G132AA67 , 4G132AA74 , 4G132BA07 , 4G132BA14 , 4G132BA16 , 4G132BA23 , 4G132BA25 , 4G132CA04 , 4G132CA05 , 4G132CA12 , 4G132CA15 , 4G132CA17 , 4G132GA04 , 4G132GA06 , 4G132GA15 , 4G132GA21 , 4G132GA23 , 4G132GA24 , 4G132GA25 , 4G132GA27 , 4G132GA30 , 4G132GA31 , 4G132GA34 , 4G132GA36 , 4G132GA48 , 4G132GA51 , 4G132GA56 , 4G146AA01 , 4G146AB05 , 4G146AC04A , 4G146AC04B , 4G146AC09B , 4G146AD11 , 4G146AD24 , 4G146BA31 , 4G146BA32 , 4G146BB04 , 4G146BB10 , 4G146BC03 , 4G146BC07 , 4G146BC23 , 4G146BC27 , 4G146BC32A , 4G146BC32B , 4G146BC33A , 4G146BC33B , 4G146BC34A , 4G146BC37B , 4G146CA01 , 4G146CA11 , 5H018AA04 , 5H018AA06 , 5H018AA07 , 5H018BB01 , 5H018BB05 , 5H018BB13 , 5H018BB16 , 5H018DD01 , 5H018EE05 , 5H018EE17 , 5H018HH01 , 5H018HH08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (11)

大韓民国公開特許公報特2001-0001127号公報
大韓民国公開特許公報特2002-0084372号公報
高比表面積炭素材料の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-309386 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社

Show all

Cited by examiner (9)

高比表面積炭素材料の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-309386 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
炭素分子体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-312079 Applicant：コリア・アドヴァンスド・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー
燃料電池用電極基材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-078497 Applicant：宇部興産株式会社

Show all

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

Synthesis of Mesoporous Silicas of Controlled Pore Wall Thickness and Their Replication to Ordered N

Cited by examiner (1)

Synthesis of Mesoporous Silicas of Controlled Pore Wall Thickness and Their Replication to Ordered N

Return to Previous Page