磁界解析方法および電流分布可視化装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：岡崎豊野
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001164393
Publication number (International publication number)：2002355229
Application date： May. 31, 2001
Publication date： Dec. 10, 2002
Summary：

【要約】【目的】空間フィルタを用いた開口合成磁界解析装置において、観測平面上の磁界センサの個数を増加せずに、関心領域内電流密度分布の空間分解能を向上させることができる磁界解析方法および電流分布可視化装置を提供する。【構成】複数座標に配置された磁界センサで構成される磁界分布計測手段と、補間処理によってより多い個数の複数座標における磁界分布データを演算する第1の演算装置と、前記演算された磁界分布データ基づいて関心領域内の任意のボクセルの電流密度ベクトル成分を求める第2の演算手段と、電流密度絶対値を求める第3の演算手段と、複数の断層画像データを構造的画像データに加工する第4の演算手段と、3次元表示を行う表示装置より構成される磁界解析方法および電流分布可視化装置。

Claim (excerpt)：

空間フィルタを用いた開口合成磁界解析装置であって、観測平面上の合計L個の複数座標における非接触磁気計測により前記複数の座標に対応する複数の磁界時系列データを取得し、かつ前記複数の磁界時系列データの時刻jに対応する合計L個の磁界データに基づいて前記観測平面上のL個よりも多い合計N個の磁界分布データを補間演算によって生成する第1の演算手段と、前記第1の演算手段によって生成された合計N個の磁界分布データに基づいて関心領域内に分割された合計M個のボクセルのうち任意のi番目のボクセル内を流れ互いに直交する電流密度ベクトルを求める空間フィルタ処理を各成分毎に演算する第2の演算手段と、前記第2の演算手段によって生成された時刻jに対応するボクセルiの電流密度ベクトルの絶対値を演算する第3の演算手段と、前記第3の演算手段によって生成されたM個のボクセルの電流密度の絶対値を3次元的に濃淡表示する表示手段とを備え、これにより観測磁界分布時系列データから関心領域内の電流密度分布の時系列データを得て、これを3次元的に可視化することを特徴とする電流分布可視化装置。

IPC (2)：

A61B 5/05 , G01R 33/035 ZAA

FI (2)：

A61B 5/05 A , G01R 33/035 ZAA

F-Term (12)：

2G017AA01 , 2G017AC01 , 2G017AD32 , 4C027AA10 , 4C027BB05 , 4C027CC00 , 4C027FF02 , 4C027FF09 , 4C027GG00 , 4C027HH13 , 4C027KK00 , 4C027KK01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

生体磁気計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-201028 Applicant：富士通株式会社
生体磁気計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-211714 Applicant：富士通株式会社, イェールユニバーシティ
生体磁場測定方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-122296 Applicant：ダイキン工業株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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