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J-GLOBAL ID：200903035585426583
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998012406
Publication number (International publication number)：1998274852
Application date： Jan. 26, 1998
Publication date： Oct. 13, 1998
Summary：
【要約】【課題】 樹脂成分と酸発生剤を含有する化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に基板への接着性に優れるものを提供する。【解決手段】 アルキルで置換されてもよいブチロラクトン残基を有する樹脂、および酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。このブチロラクトン残基は、例えばそのα-位で、エステル結合やエーテル結合を介して樹脂基体に結合することができる。また、この樹脂は通常さらに、酸の作用により解裂する基を有する。
Claim (excerpt)：
アルキルで置換されてもよいブチロラクトン残基を有する樹脂、および酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (2)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
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