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J-GLOBAL ID：200903035687324408

剥離装置および剥離方法

Inventor：
鈴木 聡

About 鈴木 聡

, 
荻野 慎

About 荻野 慎


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999104935
Publication number (International publication number)：2000299268
Application date： Apr. 13, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：
【要約】【課題】 処理室の大きさや搬送速度にかかわらず、被膜の状態などに応じて処理時間を容易に変更することができる剥離装置を提供する。【解決手段】基板Wはローラコンベア1により剥離処理室2内に搬入されて、その中で周期的に往復移動される。制御装置21は液供給機構10のポンプ19をインバータ20を介して駆動制御する。基板Wの往復移動中に、まずノズル11から低圧で剥離液が基板Wに供給されて、その表面の被膜が膨潤される。この低圧での剥離液供給が所定時間経過すると、次にノズル11から高圧で剥離液が基板Wに供給され、膨潤したフォトレジスト被膜が剥離される。高圧での剥離液供給が所定時間行なわれると、基板Wは洗浄処理室4へ搬送される。
Claim (excerpt)：
基板を処理する処理室を構成する室構成体と、前記処理室内に基板を支持する支持機構と、前記支持機構に支持された前記処理室内の基板に対して処理液を低圧及び高圧で供給可能な液供給機構と、前記液供給機構の動作を制御する制御手段と、前記液供給機構による前記基板への処理液供給位置が時間的に変化するよう該液供給機構に対して前記基板を相対的に往復移動させる相対移動機構とを備えたことを特徴とする剥離装置。
IPC (9)：
H01L 21/027 ,  B05D 1/02 ,  B05D 3/00 ,  B05D 7/24 301 ,  B65H 41/00 ,  C23F 1/00 104 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/306
FI (9)：
H01L 21/30 572 B ,  B05D 1/02 Z ,  B05D 3/00 A ,  B05D 7/24 301 T ,  B65H 41/00 B ,  C23F 1/00 104 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/306 D
F-Term (46)：
2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA02 ,  2H096LA03 ,  3F108JA05 ,  4D075AA01 ,  4D075AA83 ,  4D075AA84 ,  4D075BB20Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4K057DA19 ,  4K057DB17 ,  4K057DK03 ,  4K057DM36 ,  4K057DN02 ,  4K057DN03 ,  4K057WA19 ,  4K057WB17 ,  4K057WK01 ,  4K057WM04 ,  4K057WM06 ,  4K057WM18 ,  4K057WN02 ,  4K057WN04 ,  4K057WN06 ,  5F043AA40 ,  5F043BB30 ,  5F043CC12 ,  5F043CC16 ,  5F043DD06 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE22 ,  5F043EE24 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F043EE33 ,  5F043EE36 ,  5F043GG10 ,  5F046MA01 ,  5F046MA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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