Pat
J-GLOBAL ID：200903035840971620
重ね合わせ誤差測定用レチクル、そのレチクルを用いた重ね合わせ誤差測定方法および重ね合わせ誤差測定マーク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996051542
Publication number (International publication number)：1997244222
Application date： Mar. 08, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：
【要約】【課題】 収差の影響を考慮した重ね合わせ誤差測定用レチクルおよびそのレチクルを用いた重ね合わせ誤差測定方法を提供する。【解決手段】 収差定量レチクル101には、互いに分離された複数のユニット102が形成されている。ユニット102には、平面形状が正方形の第1の測定マークと、その第1の測定マーク内に位置しかつ複数のホールが正方形に配置された第2測定マークとが形成されている。
Claim (excerpt)：
ウェハの互いに異なる層に形成された第1パターンと第2パターンとの重ね合わせ誤差を測定するための重ね合わせ誤差測定用レチクルであって、主表面を有し、露光光を透過する透明基板と、前記透明基板の主表面上に前記第1パターンに光を照射したときと同じ収差の影響を受けるように形成された第3パターンと、前記透明基板の主表面上に前記第2パターンに光を照射したときと同じ収差の影響を受けるように形成された第4パターンとを備えた、重ね合わせ誤差測定用レチクル。
IPC (3)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
G03F 1/08 Z
, H01L 21/66 J
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 502 P
