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J-GLOBAL ID：200903035851019662

レジスト塗布装置

Inventor：
白石 雅敏

About 白石 雅敏

, 
飽本 正巳

About 飽本 正巳

, 
藤本 昭浩

About 藤本 昭浩


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社

, 
東京エレクトロン九州株式会社

About 東京エレクトロン九州株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992289390
Publication number (International publication number)：1994120132
Application date： Oct. 02, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 レジスト液の結晶がノズルに再付着することを防止する。【構成】 レジスト液を液供給ノズル60からスピンチャック50に吸着保持された被処理基板W上に塗布するレジスト塗布装置において、ノズルを待機させるノズル待機部62と、レジスト液のダミー吐出(ダミーディスペンス)を行うダミー吐出部64とを設ける。そして、ダミー吐出部64の内壁全周に沿って溶媒を流下させる溶媒放出部108を形成してダミーディスペンス時に吹き飛ばされたレジスト液の結晶等を排出する。
Claim (excerpt)：
揮発性溶媒に溶解されたレジスト液を貯留するレジスト液収容部から供給されたレジスト液を液供給ノズルから被処理基板上に供給して塗布するレジスト塗布装置において、前記液供給ノズルを溶媒中または溶媒蒸気中に浸漬して待機させるノズル待機部と、前記被処理基板上にレジスト液を塗布する前に前記ノズルからレジスト液のダミー吐出を行うためのダミー吐出部とを設け、前記ダミー吐出部の内壁に沿って溶媒を流下させる溶媒放出部を形成したことを特徴とするレジスト塗布装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
  • 特開平2-026668
  • 特開平2-026668
  • 特開平4-200768
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