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J-GLOBAL ID：200903036009481222

精度改良型パターン・ジェネレータ

Inventor：
サンドストロム、トルブヨルン

About サンドストロム、トルブヨルン


Applicant, Patent owner：
マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット

About マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット


Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000534915
Publication number (International publication number)：2002506230
Application date： Mar. 02, 1999
Publication date： Feb. 26, 2002
Summary：
【要約】本発明は、より良好なパターン忠実度および寸法精度を有する加工品へのパターン作成方法に関する。この方法は、電磁波を放射するソースを提供する段階と、前記放射により、複数の画素を有する空間光変調装置(SLM)を照射する段階と、加工品に変調装置の画像を投射する段階と、前記加工品および/または投射系を互いに移動させる段階と、書き込まれるパターンのデジタル表現を情報記憶装置から読み取る段階と、パターン表現から、連続した部分的パターンを抽出する段階と、前記部分的パターンを変調装置への信号に変換し、前記信号を変調装置に供給する段階と、さらに、加工品と、変調装置と、放射源を調整し、前記パターンを、前記部分的画像からつなぎ合わせて作成する段階と、さらに、少なくとも2つの別々の露光において前記パターンを露光する段階とから成り、片方の露光において、もう一方の露光中に生じる誤差に補正が加えられることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
超紫外線(EUV)から赤外線(IR)までの波長範囲にある電磁波を放射するソースを提供する段階と、 前記放射により、複数の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)を照射する段階と、 前記加工品に前記変調装置の画像を投射する段階と、 前記加工品および/または投射系を互いに移動させる段階と、 書き込まれたパターンのデジタル表現を情報記憶装置から読み取る段階と、 前記パターン表現から、連続した部分的パターンを抽出する段階と、 前記部分的パターンを変調装置への信号に変換し、前記信号を該変調装置に供給する段階と、 さらに、前記加工品の動作と、前記変調装置への信号の供給と、前記放射光の輝度を調整し、前記パターンを、前記連続した部分的パターンによって作成された複数の部分的画像からつなぎ合わせて作成する段階と、 さらに、少なくとも2つの別々の露光により前記パターンを露光する段階とから成り、片方の露光において、もう一方の露光中に生じる誤差に補正が加えられることを特徴とする、より良好な忠実度と寸法精度を有する加工品へのパターン作成方法。
IPC (5)：
G02B 26/08 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/207 ,  G03F 1/00 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G02B 26/08 E ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/207 ,  G03F 1/00 ,  H01L 21/30 519
F-Term (18)：
2H041AA13 ,  2H041AA16 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AZ05 ,  2H095BA05 ,  2H095BB02 ,  2H097AA03 ,  2H097BA01 ,  2H097BB01 ,  2H097CA12 ,  2H097CA14 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5F046AA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CB02 ,  5F046DA02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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