Pat
J-GLOBAL ID:200903036155732679
薄膜及び微細構造体の製造方法、並びに微細構造体
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
稲葉 良幸 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000099931
Publication number (International publication number):2001276726
Application date: Mar. 31, 2000
Publication date: Oct. 09, 2001
Summary:
【要約】【目的】 溶質、溶媒の組合せによらず基板上に膜厚、組成が均一な薄膜を製造する方法を提供する。【構成】 本発明は、基板に透明電極膜等の薄膜を形成する方法において、薄膜を形成するための溶液を基板に適用してこの溶液を膜化する際に、基板を急速な減圧環境下に置くことを特徴とする。
Claim (excerpt):
基板に薄膜を形成する方法において、前記薄膜を形成するための溶液を該基板に適用しこの溶液を膜化する際に、前記基板を急速な減圧環境下に置くことを特徴とする薄膜の製造方法。
IPC (6):
B05D 7/00
, B05D 3/12
, H05B 33/10
, H05B 33/12
, H05B 33/14
, H05K 3/10
FI (6):
B05D 7/00 A
, B05D 3/12 A
, H05B 33/10
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
, H05K 3/10 D
F-Term (27):
3K007AB04
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4D075AC01
, 4D075BB56Z
, 4D075BB93Z
, 4D075DC21
, 5E343AA02
, 5E343AA11
, 5E343AA26
, 5E343BB23
, 5E343BB25
, 5E343BB72
, 5E343BB75
, 5E343DD12
, 5E343DD17
, 5E343DD20
, 5E343DD69
, 5E343FF05
, 5E343GG06
, 5E343GG08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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樹脂材料および減圧乾燥方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-169254
Applicant:共同印刷株式会社
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カラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法及び該カラーフィルタを具備した液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-073330
Applicant:キヤノン株式会社
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発光ディスプレイの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-144901
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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被膜形成装置及び被膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-024546
Applicant:東京応化工業株式会社
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Cited by examiner (4)