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J-GLOBAL ID：200903036220249719

炭化水素の水素化処理触媒組成物の製造方法

Inventor： 古川 泰治 ,  亀岡 隆
Applicant, Patent owner： 触媒化成工業株式会社
Agent (2)： 友松 英爾 ,  岡本 利郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003169747
Publication number (International publication number)：2005000873
Application date： Jun. 13, 2003
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：

【課題】炭化水素特に軽油の水素化処理に際して、軽油中の難脱硫化合物の脱硫性能に優れ、高い脱硫活性を有する水素化処理触媒組成物の製造方法を提供。【解決手段】多孔性無機酸化物および/または多孔性無機酸化物前駆物質に活性金属成分を含有する溶液を添加して混練、成型して得られた成型物を、マイクロ波を照射して乾燥することを特徴とする炭化水素の水素化処理触媒組成物の製造方法。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

多孔性無機酸化物および/または多孔性無機酸化物前駆物質に活性金属成分を含有する溶液を添加して混練、成型して得られた成型物を、マイクロ波を照射して乾燥することを特徴とする炭化水素の水素化処理触媒組成物の製造方法。

IPC (3)：

B01J27/199 ,  B01J37/34 ,  C10G45/04

FI (3)：

B01J27/199 M ,  B01J37/34 ,  C10G45/04 Z

F-Term (20)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BC57A ,  4G069BC59B ,  4G069BC65A ,  4G069BC68B ,  4G069BC69A ,  4G069BD07A ,  4G069BD07B ,  4G069CC02 ,  4G069EA02Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB65 ,  4G069FC03 ,  4G069FC04 ,  4H029CA00 ,  4H029DA00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開平4-156949
  
• 排ガス浄化用フィルターの製造方法および排ガス浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-244157   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開昭50-018374
  
• 高活性触媒
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-529670   Applicant：サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン
• N及びカルボニルを含む有機化合物を含むところの水素化処理触媒を硫化する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-108575   Applicant：アクゾノーベルナムローゼフェンノートシャップ
• 炭化水素の水素化処理触媒組成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-088162   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, 触媒化成工業株式会社
• 水素化脱硫触媒の製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-361065   Applicant：財団法人石油産業活性化センター, コスモ石油株式会社
• 多孔質セラミックハニカム構造体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-025974   Applicant：日立金属株式会社
• セラミックハニカム構造体の製造方法及び乾燥装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-344463   Applicant：株式会社デンソー