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J-GLOBAL ID:200903036223524524
反応器
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 政喜 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001000664
Publication number (International publication number):2002211901
Application date: Jan. 05, 2001
Publication date: Jul. 31, 2002
Summary:
【要約】【課題】 分解生成ガスを生成する反応器において、改質効率を向上させ、かつ低コスト化を図り得るものを提供する。【解決手段】 改質触媒層10の両側に水素分離膜9を挟んで一対のガス分離層20を配設して、単位反応器1を構成する。改質触媒層10には、上下両面に改質触媒が塗布された改質触媒フィン12を備える。ガス分離層20には、通路分離フィン22を備え、この通路分離フィン22に対して改質触媒層10側を水素ガス通路23とし、反対側を燃焼ガス通路24とする。
Claim (excerpt):
分解生成ガスを生成する反応器において、改質ガスを生成する改質触媒層と、改質ガス中の分解生成ガスを分離して透過する分解生成ガス分離部材を挟んで前記改質触媒層の両側に配設された一対の分解生成ガス通路と、を備えたことを特徴とする反応器。
IPC (4):
C01B 3/32
, C01B 3/38
, C01B 3/56
, H01M 8/06
FI (4):
C01B 3/32 A
, C01B 3/38
, C01B 3/56 Z
, H01M 8/06 G
F-Term (23):
4G040EA02
, 4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB23
, 4G040EB31
, 4G040EB46
, 4G040FA02
, 4G040FC01
, 4G040FC07
, 4G140EA02
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB23
, 4G140EB31
, 4G140EB46
, 4G140FA02
, 4G140FC01
, 4G140FC07
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027BA16
, 5H027KK41
, 5H027MM13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
特開昭62-162601
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水素製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-166352
Applicant:東京瓦斯株式会社, 三菱重工業株式会社
-
非平衡反応用プレートフィン型反応器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-157854
Applicant:川崎重工業株式会社, 住友精密工業株式会社
-
水素製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-206993
Applicant:三菱重工業株式会社, 東京瓦斯株式会社
-
プレート式反応器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-296393
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
-
水素製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-088709
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
-
脱水素反応の促進方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-135301
Applicant:川崎重工業株式会社
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