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J-GLOBAL ID：200903036312371251

透明導電性フィルムの製造方法及び透明導電性フィルム

Inventor： 間宮 周雄 ,  辻 稔夫 ,  清村 貴利 ,  伊藤 博人
Applicant, Patent owner： コニカミノルタホールディングス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002165904
Publication number (International publication number)：2004010753
Application date： Jun. 06, 2002
Publication date： Jan. 15, 2004
Summary：

【課題】生産コストが低く、高い導電率で(比抵抗値の低く)、透明性、エッチング処理性に優れた透明導電性フィルム及びその製造する方法を提供する。【解決手段】対向電極間を大気圧近傍の圧力として、少なくとも放電ガスと薄膜形成性ガスを含有する混合ガスを満たし、該対向電極間に連続したサイン波の周波数100kHzを超える高周波電圧をかけ、且つ1W/cm2以上の電力密度を供給してプラズマを発生させて該混合ガスをプラズマ状態とし、該プラズマ状態の混合ガスに、基材を晒して該基材上に透明導電膜を形成させる大気圧プラズマ放電薄膜形成方法を用いて、該基材の表面温度を120°C以下として該プラズマ状態の混合ガスに晒すことを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

対向電極間を大気圧もしくはその近傍の圧力として、少なくとも放電ガスと薄膜形成性ガスを含有する混合ガスを満たし、該対向電極間に連続したサイン波の周波数100kHzを超える高周波電圧をかけ、且つ1W/cm2以上の電力密度(または出力密度)を供給してプラズマを発生させて該混合ガスをプラズマ状態とし、該プラズマ状態の混合ガスに、基材を晒して該基材上に透明導電膜を形成させる大気圧プラズマ放電薄膜形成方法を用いて、該基材の表面温度を120°C以下として該プラズマ状態の混合ガスに晒すことを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。

IPC (7)：

C08G83/00 ,  B01J19/08 ,  C08J7/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/507 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

FI (8)：

C08G83/00 ,  B01J19/08 H ,  C08J7/04 D ,  C08J7/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/507 ,  H01B5/14 A ,  H01B13/00 503B

F-Term (65)：

4F006AA12 ,  4F006AA36 ,  4F006AB68 ,  4F006BA07 ,  4F006CA08 ,  4F006DA01 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075CA02 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA57 ,  4G075CA63 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075FC11 ,  4J031BA19 ,  4J031BB02 ,  4J031BB09 ,  4J031BC03 ,  4J031BD25 ,  4J031CA12 ,  4J031CA87 ,  4J031CE04 ,  4J031CG33 ,  4J031CG46 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA02 ,  4K030BA11 ,  4K030BA15 ,  4K030BA16 ,  4K030BA21 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030BA45 ,  4K030BA47 ,  4K030BB03 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030GA04 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030KA32 ,  4K030KA46 ,  4K030LA01 ,  4K030LA17 ,  4K030LA18 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FB02 ,  5G307FC03 ,  5G307FC09 ,  5G307FC10 ,  5G323BA04 ,  5G323BB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平1-045434
  
• 特開昭61-203136
  
• 透明導電膜形成方法、該方法により形成された透明導電膜および該透明導電膜を有する物品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145365   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社
• 透明導電膜の製造方法および透明導電膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-110800   Applicant：コニカ株式会社
• 常圧プラズマを用いたフィルム基材への薄膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-197559   Applicant：積水化学工業株式会社
• 透明導電膜形成方法及び該方法より形成された透明導電膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-094764   Applicant：日本板硝子株式会社, 住友重機械工業株式会社
• 特開平1-045434
  
• 特開昭61-203136